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CVD氣相沉積采用雙層殼體結(jié)構(gòu)和40段程序控溫系統(tǒng)，移相觸發(fā)、可控硅控制，爐膛采用氧化鋁多晶體纖維材料，管式爐雙層爐殼間配有風(fēng)冷系統(tǒng)，能快速升降溫，采用99剛玉管、兩端用不銹鋼法蘭密封，用浮子流量計(jì)控制進(jìn)氣流量、該爐具有溫場(chǎng)均衡、表面溫度低、升降溫度速率快、節(jié)能等優(yōu)點(diǎn)。適用于銅鎢合金、鋁鎳鈷永磁、釹鐵硼、碳纖維石墨化，碳碳復(fù)合材料，碳化硅制品，鎢鉬及其他合金材料的真空或氣氛高溫?zé)Y(jié)，也可作為其他金屬材料的熱處理及氣相沉積。CVD氣相沉積爐管為定制下細(xì)上粗不銹鋼管，爐管內(nèi)部配置...

退火爐采用負(fù)反饋?zhàn)詣?dòng)調(diào)節(jié)的控制系統(tǒng)。在室溫至450℃的溫度范圍，可任意設(shè)定退火溫度值，儀器根據(jù)設(shè)定的退火溫度值，自動(dòng)進(jìn)行升溫和恒溫控制爐內(nèi)溫度，并長(zhǎng)時(shí)間保持爐內(nèi)恒溫。電路的特點(diǎn)是采用了比例微積分控制原理，爐內(nèi)溫度自動(dòng)調(diào)節(jié)過(guò)程平衡，消除爐內(nèi)退火空間一倍；重新設(shè)計(jì)了加熱體結(jié)構(gòu)，配合新國(guó)際規(guī)定熱電偶的使用，保證了縱橫向溫度梯度的一致性；外觀造型采用了控制臺(tái)側(cè)置的整體斜面操控的人性化設(shè)計(jì)，使操作更加方便合理，數(shù)碼顯示溫度值清晰、準(zhǔn)確。退火爐的設(shè)備特點(diǎn)：1、自動(dòng)化控制電加熱多區(qū)同步控制...

箱式氣氛爐是一種實(shí)驗(yàn)設(shè)備,適用于金屬、納米、單晶硅、多晶硅、電池等的擴(kuò)散焊接以及真空氣體保護(hù)下，氣氛熱處理的加熱設(shè)備鉬絲爐、箱式氣氛爐、井式氣氛爐、真空管式爐用于材料或化學(xué)實(shí)驗(yàn)室，在真空或氣氛狀態(tài)下燒結(jié)各種新材料樣品。箱式氣氛爐分為以下幾個(gè)部分：1.爐膛爐膛采用莫來(lái)石聚輕磚砌筑，爐膛內(nèi)上下用碳化硅棚板，爐內(nèi)溫度是加熱元件在加熱過(guò)程中經(jīng)過(guò)碳化硅棚板傳導(dǎo)（暗火加熱），溫度更均勻。爐殼密封。為提高密封墊的使用壽命在爐門(mén)口設(shè)有循環(huán)水冷套以降低密封處的溫度。進(jìn)氣設(shè)爐膛底部，經(jīng)加熱腔預(yù)熱...

真空感應(yīng)熔煉爐冶煉是在負(fù)壓條件下進(jìn)行加熱、熔化、精煉、合金化和澆注的冶煉方法。由于全部冶金過(guò)程是在與大氣隔離的條件下進(jìn)行的，因此避免了大氣對(duì)鋼液的污染。鋼液在真空下精煉，能顯著地提高其純度并能準(zhǔn)確控制鋼的化學(xué)成分。由于受真空室尺寸的限制，一般使用真空爐冶煉基本為毛坯料或者母合金，后續(xù)還要進(jìn)行諸如電渣重熔、鍛壓、軋制等熱加工工序。真空感應(yīng)熔煉爐是由爐體、真空泵系統(tǒng)、電源電控等幾大部分組成。爐體部分構(gòu)成進(jìn)行冶煉生產(chǎn)的場(chǎng)所和空間。它由以下單元組成：合金加料裝置、觀察裝置、取樣裝置、...

氣氛爐是一種加熱設(shè)備，適用于金屬、納米、單晶硅、多晶硅、電池等的擴(kuò)散焊接以及真空氣體保護(hù)下，氣氛熱處理的實(shí)驗(yàn)設(shè)備。主要用于材料試驗(yàn)、合成、燒結(jié)等。還可用于、復(fù)合材料、粉體材料、結(jié)構(gòu)陶瓷、合金的真空熱壓燒結(jié)。氣氛爐不同于普通的實(shí)驗(yàn)電爐，其在結(jié)構(gòu)以及使用上都有特殊性，為更好的保證安全，也使發(fā)揮更大的效果，有以下的操作注意事項(xiàng)：1.爐芯位置確定要準(zhǔn)確，反應(yīng)箱必須垂直吊放，高度適中，放置端正，兩排箱體之間保持等距，定保爐芯寬度尺寸精確無(wú)誤。反應(yīng)箱四角與端墻縫隙處，用紙?zhí)顚?shí)。2.每放完...

真空氣氛管式爐采用雙層殼體結(jié)構(gòu)和控溫儀表，能進(jìn)行30段程序控溫，移相觸發(fā)、可控硅控制，爐膛采用氧化鋁多晶纖維材料，爐管兩端能不銹鋼法蘭密封，不銹鋼法蘭上安裝有氣嘴、閥門(mén)和壓力表，抽真空時(shí)真空度能夠達(dá)到10-3Pa，該爐具有溫場(chǎng)均衡、表面溫度低、升降溫度速率快、節(jié)能等優(yōu)點(diǎn)，是高校、科研院所、工礦企業(yè)做高溫氣氛燒結(jié)、氣氛還原、CVD實(shí)驗(yàn)、真空退火用的理想產(chǎn)品。真空氣氛管式爐具備的產(chǎn)品功能特性：1、爐膛材料選用氧化鋁陶瓷纖維材料。2、發(fā)熱體采用硅碳棒，可承受負(fù)荷大。3、爐管采用石英...

在我們實(shí)際研磨拋光過(guò)程中，研磨拋光主要講的是化學(xué)機(jī)械拋光（CMP:ChemicalMechanicalPolishing）。CMP是化學(xué)的和機(jī)械的綜合作用，在一定壓力及拋光漿料存在下，在拋光液中的腐蝕介質(zhì)作用下工件表面形成一層軟化層，拋光液中的磨粒對(duì)工件上的軟化層進(jìn)行磨削，因而在被研磨的工件表面形成光潔表面。拋光液中的腐蝕介質(zhì)與被拋光表面材料發(fā)生了化學(xué)反應(yīng)，生成很薄的剪切強(qiáng)度很低的化學(xué)反應(yīng)膜，反應(yīng)膜在磨粒磨削作用下被去處，從而露出新的表面，接著又繼續(xù)反應(yīng)生成新的反應(yīng)膜，如此周...

箱式爐是使用較為廣泛和基礎(chǔ)的爐型，系周期作業(yè)式，主要供合金鋼制品、各種金屬機(jī)件正火、淬火、退火、燒結(jié)、回火、時(shí)效、加熱等熱處理用途。廣泛用于陶瓷、冶金、電子、玻璃、石油化工、工礦企業(yè)、醫(yī)療衛(wèi)生、科研單位、、機(jī)械、耐火材料、新材料開(kāi)發(fā)、特種材料、建材等領(lǐng)域的生產(chǎn)及實(shí)驗(yàn)室及模具。還可作金屬、陶瓷的燒結(jié)、溶解、分析等高溫加熱用。溫度均勻度是由從高溫嵌入到澆注耐火材料磚電阻絲制成螺旋兩側(cè)壁加熱元件提供。排氣孔被作為選用配備。絕緣門(mén)打開(kāi)向上和向外保持熱絕緣面遠(yuǎn)離操作者。門(mén)開(kāi)關(guān)隔離電源從...

管式爐工作原理是將工件放入感應(yīng)器(線(xiàn)圈)內(nèi)，當(dāng)感應(yīng)器中通入一定頻率的交變電流時(shí)，周?chē)串a(chǎn)生交變磁場(chǎng)。交變磁場(chǎng)的電磁感應(yīng)作用使工件內(nèi)產(chǎn)生封閉的感應(yīng)電流──渦流。感應(yīng)電流在工件截面上的分布很不均勻，工件表層電流密度很高，向內(nèi)逐漸減小，這種現(xiàn)象稱(chēng)為集膚效應(yīng)。工件表層高密度電流的電能轉(zhuǎn)變?yōu)闊崮?，使表層的溫度升高，即?shí)現(xiàn)表面加熱。電流頻率越高，工件表層與內(nèi)部的電流密度差則越大，加熱層越薄。在加熱層溫度超過(guò)鋼的臨界點(diǎn)溫度后迅速冷卻，即可實(shí)現(xiàn)表面淬火。管式爐的布置要求：（1）宜集中布置在裝...

紫外可見(jiàn)分光光度計(jì)是一類(lèi)很重要的分析儀器，無(wú)論在物理學(xué)、化學(xué)、生物學(xué)、醫(yī)學(xué)、材料學(xué)、環(huán)境科學(xué)等科學(xué)研究領(lǐng)域，還是在化工、醫(yī)藥、環(huán)境檢測(cè)、冶金等現(xiàn)代生產(chǎn)與管理部門(mén)，紫外可見(jiàn)分光光度計(jì)都有廣泛而重要的應(yīng)用。1.檢定物質(zhì)根據(jù)吸收光譜圖上的一些特征吸收，特別是最大吸收波長(zhǎng)λ-max和摩爾吸收系數(shù)ε是檢定物質(zhì)的常用物理參數(shù)。這在藥物分析上就有著很廣泛的應(yīng)用。在國(guó)內(nèi)外的藥典中，已將眾多的藥物紫外吸收光譜的最大吸收波長(zhǎng)和吸收系數(shù)載入其中，為藥物分析提供了很好的手段。2.與標(biāo)準(zhǔn)物及標(biāo)準(zhǔn)圖譜對(duì)...

產(chǎn)品名稱(chēng)：TIMS-150電池性能測(cè)試恒溫箱產(chǎn)品簡(jiǎn)介：根據(jù)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)（鋰電池測(cè)試GB31241-2014）本產(chǎn)品能滿(mǎn)足各大高校，企業(yè)和研究所電池材料的研發(fā)和測(cè)試，適用于扣式電池，軟包電池，柱狀電池性能測(cè)試的恒溫保存。小巧，節(jié)省實(shí)驗(yàn)室空間。恒溫精度準(zhǔn)確。產(chǎn)品特點(diǎn):●鏡面不銹鋼工作室。四角呈半圓弧形過(guò)渡，易清潔，擱板間距可調(diào)?！裎㈦娔X控制系統(tǒng)，大屏幕液晶顯示，具有時(shí)間設(shè)定、參數(shù)記憶、來(lái)電恢復(fù)功能?！衿放茐嚎s機(jī)無(wú)氟制冷、微風(fēng)循環(huán)。●箱體左側(cè)設(shè)有φ52mm夾具出線(xiàn)口，標(biāo)配2個(gè)，可以另外...

CVD氣相沉積是一種生產(chǎn)高質(zhì)量固體薄膜和涂層的強(qiáng)大技術(shù)。盡管已廣泛用于現(xiàn)代工業(yè)中，但由于它已適應(yīng)新材料，因此仍正在不斷發(fā)展中。如今，通過(guò)精確制造2D材料的無(wú)機(jī)薄膜和可以共形沉積在各種基材上的高純度聚合物薄膜，CVD合成技術(shù)正被推向新的高度。CVD氣相沉積的高溫分解反應(yīng)：CVD沉積反應(yīng)里簡(jiǎn)單直接的方式就是熱分解反應(yīng)，其原理主要是固態(tài)化合物升溫到一定溫度會(huì)分解為固態(tài)目標(biāo)產(chǎn)物和氣態(tài)副產(chǎn)物。操作步驟一般是向真空或惰性氣氛下的單溫區(qū)管式爐導(dǎo)入反應(yīng)氣體，將爐溫升至化合物的分解溫度使之發(fā)生...