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當(dāng)前位置：首頁  >  產(chǎn)品中心  >  CVD氣相沉積  >  高真空CVD系統(tǒng)

  • CVD氣相沉積

    CVD（ChemicalVaporDeposition，化學(xué)氣相沉積）是一種用于薄膜沉積的技術(shù)。它通過將氣態(tài)化學(xué)前驅(qū)體反應(yīng)成固態(tài)沉積物，在基材表面形成薄膜。CVD廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造、光伏設(shè)備、涂層和材料科學(xué)等領(lǐng)域。

    更新日期：2025-03-13
    型號：
    廠商性質(zhì)：代理商
  • GSL-1700X-HVC1700°C二通道混氣高真空CVD系統(tǒng)

    GSL-1700X-HVC是一款CE認(rèn)證的二通道高真空CVD系統(tǒng)，它是由二路質(zhì)子混氣系統(tǒng)和高真空機組組度可達1600℃，極限真空度可達 to 10^-5 torr。混氣系統(tǒng)可以對兩種氣體進行精確的混氣，然后導(dǎo)

    更新日期：2025-03-13
    型號：GSL-1700X-HVC
    廠商性質(zhì)：代理商
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