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這款微型PECVD系統(tǒng)，其腔體為 3*dia× 16“L的石英腔體，而且加熱圈在石英腔體內(nèi)部對樣品進(jìn)行加熱，此系統(tǒng)配有2通道混氣系統(tǒng)和雙旋機械泵。整套儀器都按放在一個移動架上，以便于實驗操作。等離子腔體內(nèi)部的最高溫度可以達(dá)到400℃，采用程序化控溫。此款小型廉價的PECVD系統(tǒng)對于薄膜生長和納米線的制作是一款很好的選擇。

OTF-1200X-III-R5-PECVD是一款1200℃等離子增強化學(xué)氣相沉積三溫區(qū)回轉(zhuǎn)管式爐系統(tǒng)（R-PECVD），等離子增強系統(tǒng)的引入可在相對較低的溫度下實現(xiàn)粉末表面的包覆復(fù)合、核殼結(jié)構(gòu)制備等工藝過程。自動進(jìn)出料系統(tǒng)可實現(xiàn)連續(xù)生產(chǎn)，可保證在氣氛保護環(huán)境下進(jìn)行粉體的進(jìn)給和收集，包含射頻電源（帶自動匹配功能）、四通道質(zhì)子流量計控制系統(tǒng)及真空泵系統(tǒng)，可由PLC觸摸屏或PC電腦控制，使用方便快捷。

OTF-1500X-III-4CV-PE-SL是一款三溫區(qū)1500℃的PECVD管式爐系統(tǒng)，該設(shè)備由射頻電源、1500℃三溫區(qū)管式爐、多通道質(zhì)子混氣系統(tǒng)和真空系統(tǒng)組成。此款PECVD系統(tǒng)可廣泛應(yīng)用于生長納米線、石墨烯及薄膜材料領(lǐng)域。

OTF-1200X-S-II-R-4CV-PE是一款1200℃PECVD等離子體增強氣相沉積由射頻電源、雙溫區(qū)管式爐、4通道質(zhì)子流量計控制系統(tǒng)、性能優(yōu)異的真空泵及水冷機組成。此套完整的設(shè)備系統(tǒng)特別適合用于無機復(fù)合粉末的熱處理以及粉未表面的改性處理工藝中（如：粉體摻雜（空穴、間隙原子）、表面改性、表面包覆及制備鋰離子電池陰極粉末的導(dǎo)電涂層等）。

OTF-1200X-50-1I-4CV-PE-MSL是一款雙溫區(qū)的PECVD管式爐系統(tǒng)，組成部分為500W的射頻發(fā)生器、滑動速度可控的雙溫區(qū)滑軌爐，預(yù)熱爐（作用為使固體原料蒸發(fā)）和德國進(jìn)口的無油泵。此款PECVD對于生長納米線或用CVD方法來制作各種薄膜是一款新的探索工具。

OTF-1200X-PESDFG-50是一款雙爐體滑動的PECVD系統(tǒng)，連接循環(huán)手套箱。此款設(shè)備中石英爐管與循環(huán)手套箱連接，可利用CVD方法，將樣品處理后直接移入到氣氛保護環(huán)境下的手套箱中。爐體采用滑動式，可在實驗室中對樣品進(jìn)行快速加熱和快速冷卻。此款儀器特別適合新一代納米材料和二維晶體材料的探索研究。